太陽能涂層薄膜測量臺階儀

中圖儀器NS系列太陽能涂層薄膜測量臺階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器，其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。儀器采用了線性可變差動電容傳感器LVDC，具備超微力調(diào)節(jié)的能力和亞埃級的分辨率，同時(shí)，其集成了超低噪聲信號采集、超精細(xì)運(yùn)動控制、標(biāo)定算法等核心技術(shù)，使得儀器具備超高的測量精度和測量重復(fù)性。

產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測量功能

1）臺階高度：能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度，可以準(zhǔn)確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料；

2）粗糙度與波紋度：能夠測量樣品的粗糙度和波紋度，分析軟件通過計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線，可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項(xiàng)參數(shù)；

3）翹曲與形狀：能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲，如在半導(dǎo)體晶圓制造過程中，因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化，或者類似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

2.數(shù)采與分析系統(tǒng)

1）自定義測量模式：支持用戶以自定義輸入坐標(biāo)位置或相對位移量的方式來設(shè)定掃描路徑的測量模式；

2）導(dǎo)航圖智能測量模式：支持用戶結(jié)合導(dǎo)航圖、標(biāo)定數(shù)據(jù)、即時(shí)圖像以智能化生成移動命令方式來實(shí)現(xiàn)掃描的測量模式。

3）SPC統(tǒng)計(jì)分析：支持對不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析，針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢。

3.光學(xué)導(dǎo)航功能

配備了500W像素的彩色相機(jī)，可實(shí)時(shí)將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸?shù)杰浖酗@示，進(jìn)行即時(shí)的高精度定位測量。

4.樣品空間姿態(tài)調(diào)節(jié)功能

配備了精密XY位移臺、360°電動旋轉(zhuǎn)平臺和電動升降Z軸，可對樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié)，提高測量精度及效率。

性能特點(diǎn)

1.亞埃級位移傳感器

具有亞埃級分辨率，結(jié)合單拱龍門式設(shè)計(jì)降低環(huán)境噪聲干擾，確保儀器具有良好的測量精度及重復(fù)性；

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調(diào)，以適應(yīng)硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面，采用超低慣量設(shè)計(jì)和微小電磁力控制，實(shí)現(xiàn)無接觸損傷的接觸式測量；

3.超平掃描平臺

系統(tǒng)配有超高直線度導(dǎo)軌，杜絕運(yùn)動中的細(xì)微抖動，真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌。

臺階儀在太陽能光伏行業(yè)的應(yīng)用

由于ITO膜具有一定的透光性，而硅基板具有較強(qiáng)的反射率，會對依賴反射光信號進(jìn)行圖像重建的光學(xué)輪廓儀造成信號干擾導(dǎo)致ITO膜厚圖像重建失真，因此考慮采用接觸式輪廓儀對ITO膜厚進(jìn)行測量，由于其厚度范圍從十幾納米到幾百納米，考慮到測量的同時(shí)不損傷樣件本身，因而采用具有超微力可調(diào)和亞納米級分辨率的臺階儀最為合適。

NS系列太陽能涂層薄膜測量臺階儀采用LVDC電容傳感器，具有的亞埃級分辨率和超微測力等特點(diǎn)使得其在ITO導(dǎo)電薄膜厚度的測量上具有很強(qiáng)的優(yōu)勢。針對測量ITO導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用場景，NS200臺階儀提供如下便捷功能：

1）結(jié)合了360°旋轉(zhuǎn)臺的全電動載物臺，能夠快速定位到測量標(biāo)志位；

2）對于批量樣件，提供自定義多區(qū)域測量功能，實(shí)現(xiàn)一鍵多點(diǎn)位測量；

3）提供SPC統(tǒng)計(jì)分析功能，直觀分析測量數(shù)值變化趨勢；

部分技術(shù)指標(biāo)

使用環(huán)境

相對濕度：濕度 （無凝結(jié)）30-40% RH

溫度：16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動：6.35μm/s（1-100Hz）

音頻噪音：≤80dB

空氣層流：≤0.508 m/s（向下流動）

懇請注意：因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要，本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改，恕不另行通知，不便之處敬請諒解。

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